기술적으로 수준이 높은 고도한 기술, 원천기술, 기본기술, 제조방법, 제조프로세스, 가공방법인 경우, 또는 심사결과 확정된 권리를 얻고자 하는 경우의 출원방식이 특허출원이고, 단순한 착상, 아이디어,기존제품의 개선, 개량, 부가 등으로 비교적 낮은 기술에 관한 권리로서 심사없이 등록받는 출원방식이라는 것 외에 특허는 실용신안에는 존재하지 않는 고유의 제도가 있습니다.

제조방법, 제조프로세스, 가공방법, 처리방법, 조작방법 등의 방법이나 프로세스에 관한 기술은 특허로 만 출원이 가능합니다. 따라서 이러한 기술을 바탕으로 실용신안으로 출원하는 이중출원은 불가능합니다.
(예: 자동차엔진의 연료분사제어방법, 티탄금속표면의 표면가공방법, 고기능성섬유의 직조방법, 공작기계의 제어방법, CDMA 데이터처리프로세스, MP3 플레이어의 선곡제어방법, 노래방기기의 인터넷파일다운방법)

한정된 국내 심사관 수에 비하여 특허출원은 연간 10 만 건을 상회하고 있어 심사지연이 있을 수 밖에 없습니다. 이는 심사관이 고도한 기술내용을 이해하고 선행되어 등록된 선등록특허기술을 검색하는 데에 많은 시간이 소요되지만, 심사관 수의 대폭 증원이 불가능하여 유발되는 문제입니다. 특허청에서는 이러한 심사적체를 해소하고자 노력을 하고 있지만 대폭적인 심사기간의 단축은 어려운 실정으로서 일본 등의 선진국에서도 비슷한 실정입니다. 이러한 심사적체 문제를 해소하기 위하여 도입한 제도가 실용신안의 무심사등록제도입니다.

(www.kipris.or.k)에 주요부분이 무조건 공개됩니다. 이 공개된 출원내용을 보고 제 3 자는 만일 해당 특허출원이 등록될 경우에 피해가 우려되면 적극적으로 등록을 저지하기 위한 자료의 제출,이의신청준비를 하거나 기술내용을 참고하여 회피설계를 하게 됩니다.

특허출원은 출원과 동시에 또는. 출원 이후에 5 년 이내에 선택적으로 심사청구를 할 수 있습니다. 심사청구를 신청한 출원 만, 실제 심사에 들어가게 되고, 심사청구가 이 기간 내에 없으면 출원은 취하처리(원래 출원이 없었던 것으로 간주)됩니다. 그러나, 공개된 기술내용 등, 출원사실은 남아 있게 됩니다.
PATENTpro에서는 특허출원 시에는 심사청구를 함을 원칙으로 하여 비용의 산정과 작업을 수행하게 됩니다.

a. 공개된 출원의 기술내용을 제 3 자가 무단으로 침해, 실시하는 경우

b. 방위산업분야출원, 공해방지에 유용한 출원, 수출촉진과 직접 관계가 있는 출원, 국가-지방자치단체의 직무에 관한 출원, 벤처기업확인을 받은 기업출원, 신기반기술개발사업 등 신기술개발지원사업결과물의 출원, 국가품질인증사업결과물의 출원, 해외출원으로서 외국특허청에 절차가 진행 중인 출원, 자기실시 또는 실시준비중인 출원, 전자거래촉진법에 직접 관련이 있는 출원.

위의 우선심사는 신청과 동시에 무조건 받아들여 지는 것이 아니고 심사관의 심사,검토로서 우선심사를 거부할 수 있고, 우선심사 시의 심사결과는 송부하지만, 등록 또는 거절의 확정결정은 출원 이후 1년 3 개월 경과 시에 수행합니다.